氧化铈抛光皮 精密抛光专用 高耐磨光学级抛光耗材
一、产品核心优势：稳定耐用，性价比拉满
三重抛光更高效：氧化铈磨料通过Ce³⁺/Ce⁴⁺可变价特性，快速完成“氧化-络合-剥离”循环，相比氧化铝抛光皮，K9玻璃材料去除率达1.55mg/min，提升40%，表面粗糙度低至Ra≤0.018μm，雾度（Haze）值＜0.1%，完美呈现光学级镜面效果。
超耐用性突破行业标准：聚氨酯基材经高温交联处理，形成“硬而不脆”的固结结构，显微硬度达6GPa，断裂韧性比传统产品提升1倍，弯折180°不碎裂。可承受60℃持续作业温度，连续使用时长突破120小时，是进口同类产品的1.3倍。
全链路成本优化：HA80±5规格可直接替代环球LP66及进口同类产品，采购成本降低30%，且因抛光效率提升，单条年产10万片光学产线，年节省电费、人工等间接成本超500万元。激光织构表面的1-2μm凹坑设计，减少碎屑二次划伤，不良品率降低60%。
性能稳定无偏差：磨粒分布均匀性CV值＜3%，每批次产品硬度、研磨力保持一致，有效避免因工具差异导致的工件品质波动，提升批量生产良率。
二、精准参数：多规格适配不同场景
参数类别 | 具体规格 | 说明 |
|---|---|---|
核心成分 | 聚氨酯基材 + 99.9%高纯度氧化铈磨料（CeO₂主含量＞99.9%） | 采用喷雾干燥工艺解聚，磨粒粒径D50控制在0.8-1.2μm，无硬团聚颗粒，杜绝工件划伤 |
硬度选择 | HA70±5 / HA80±5 / HA90±5 | 软硬度按需匹配，硬规格适用于粗抛去痕，软规格适用于精抛提亮 |
尺寸与凹槽 | 支持定制任意尺寸及凹槽设计 | 完美适配各类抛光设备，精准贴合2.5D/3D曲面工件弧度 |
适用pH范围 | 6.0-8.0（中性至弱碱性） | 兼容常规抛光液，不易发生化学腐蚀变质 |
三、全场景覆盖：从工业量产到精细加工
核心适用材质：适配软质火石玻璃、熔融石英、蓝宝石晶体、硅晶圆等硬脆材料，尤其适用于光学玻璃、手机3D盖板、ITO导电玻璃、TFT液晶玻璃等高精度抛光需求。
工业量产场景
3C产品2.5D/3D玻璃前后盖板抛光 、汽车玻璃、后视镜划痕修复、光学仪器镜片批量加工、半导体硅片背损伤去除
精细加工场景
水晶工艺品镜面抛光、钟表镜片精密处理、激光陀螺窗口抛光、高功率激光器镜片加工
四、使用与维护：延长寿命更高效
预处理：使用前用去离子水轻轻冲洗表面，去除浮尘，避免抛光时造成二次划伤。
工艺匹配：根据工件材质选择对应硬度，粗抛建议使用HA80±5规格，压力控制在0.1-0.3MPa；精抛选用HA70±5规格，压力降至0.05-0.1MPa，转速以100-300r/min为宜。
清洁保养：使用后立即用流动清水冲洗，去除残留抛光液和碎屑，若有顽固残留可配合中性清洁剂轻柔擦拭，避免使用酸性或强碱性试剂。
存储条件：置于干燥通风环境，避免阳光直射和潮湿环境，防止基材老化变质。
五、品质保障与服务
全流程品控保障：每批次产品通过激光测厚检测，厚度公差控制在±5μm内，确保尺寸精准。
支持免费拿样测试，提供专属技术顾问，根据您的具体工况优化抛光方案。
批量采购享受定制化包装服务，全程物流溯源，售后问题24小时响应。
欢迎来电免费索取样板或莅临指导，谢谢！
1 8 3 1 8 3 1 8 3 0 6 陈 志 鹏
"CMPPAD"本著：“诚信、务实、专业、创新”的企业宗旨，竭诚与广大客户共发展，共创美好未来。
